特許

J-GLOBAL ID：200903098538244983

基板処理装置

発明者： 山岡 明暢
出願人/特許権者： 国際電気株式会社
代理人 (1件)： 油井 透 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-234171
公開番号（公開出願番号）：特開2000-068209
出願日： 1998年08月20日
公開日（公表日）： 2000年03月03日
要約：

【要約】【課題】 排気系へのプロセスガスの生成物の付着を低減でき、パーティクルの発生を抑制することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 二つの導入口4、4に交互にプロセスガスを供給すると共に、プロセスガスを導入している導入口4側の排気口5をAPCバルブ11で閉じ、反対側の排気口5をAPCバルブ11により開度を制御し、処理容器1にプロセスガスをガス流F1とガス流F2とに交互に切り替えて流す。プロセスガスを導入している導入口4側の排気口5をAPCバルブ11で塞ぎ、排気口5の排気管6がプロセスガスの滞留部となるのを防止し、排気管6などに付着するプロセスガスの生成物の付着量を低減する。

請求項（抜粋）：

プロセスガスを供給して基板の処理を行うと共に処理後のガスを排気する処理室を形成する処理容器の排気口部に、排気口を開閉するバルブを備えたことを特徴とする基板処理装置。

Fターム (7件)：

5F045AF07 ,  5F045BB15 ,  5F045EB05 ,  5F045EE19 ,  5F045EF20 ,  5F045EG02 ,  5F045EG06