特許

J-GLOBAL ID：200903098543612796

フォトマスクおよびこれを用いたインクジェット記録ヘッドの製造方法並びにインクジェット記録ヘッド

発明者： 河野 公志
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 谷 義一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-212483
公開番号（公開出願番号）：特開平8-076349
出願日： 1994年09月06日
公開日（公表日）： 1996年03月22日
要約：

【要約】【目的】 寸法安定性に優れ、信頼性の高い長寿命のフォトマスクを提供することを目的とする。【構成】 フォトマスク1は金属板としての矩形の銅板2と、この銅板2の片面上にスパッタリングにより形成された金属膜としてのAl膜3とから概略構成されている。銅板2には、その長手方向の中央部分に一直線上に例えば直径90μの穴4がピッチ210μで約250個エッチングにより形成されている。このため、Al膜3は銅板2の片面のうち、上記穴4を除いた部分に厚さ約0.2〜0.4μで形成されている。金属板として熱伝導度の良好な金属である銅板を用い、その銅板の表面にKrFレーザ(波長248nm)の波長に対する反射率の高いAl膜を形成することにより、高出力のレーザ照射にも耐え得る高精度のフォトマスクを作成することができる。

請求項（抜粋）：

加工パターン形状を有する金属板と、該金属板上に形成され、かつ、照射光に対する高い反射率をもつ金属膜とを含むことを特徴とするフォトマスク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  B41J 2/16 ,  B41J 2/05

FI (2件)：

B41J 3/04 103 H ,  B41J 3/04 103 B

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-109246
  
• 特開平2-187346
  
• 特開平2-187346