特許
J-GLOBAL ID：200903098552837687
薄膜形成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
北村 欣一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-277272
公開番号（公開出願番号）：特開平7-102366
出願日： 1993年10月01日
公開日（公表日）： 1995年04月18日
要約：
【要約】【目的】 基板上への薄膜の成膜中に機器、或いは構成部品に付着せる堆積物が剥離したり、飛散することがなく、また、再処理使用が可能な機器、構成部品を備えた薄膜形成装置。【構成】 チタンまたはチタン合金の表面にアルミニウム層またはアルミニウム合金層を被覆形成した汚染防止材で構成した機器または構成部品を備える薄膜形成装置。
請求項（抜粋）：
真空中で基板上に薄膜を形成する薄膜形成装置において、該薄膜形成装置内の機器または構成部品をチタンまたはチタン合金の表面にアルミニウム層またはアルミニウム合金層を被覆形成した汚染防止材で構成したことを特徴とする薄膜形成装置。
IPC (2件)：
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