特許

J-GLOBAL ID：200903098557249171

ポリシリコン膜の研磨方法およびポリシリコン膜用研磨剤

発明者： 渡辺 峯生 ,  原田 均 ,  菅原 誠
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社 ,  三菱マテリアルシリコン株式会社
代理人 (1件)： 安倍 逸郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-069078
公開番号（公開出願番号）：特開平7-249600
出願日： 1994年03月14日
公開日（公表日）： 1995年09月26日
要約：

【要約】【目的】 ポリシリコン膜の鏡面研磨に使用する研磨剤と研磨方法とを提供する。【構成】 水性コロイドシリカゾルまたはシリカゲルを主成分とし、これに0.001〜0.1重量%のアミンを含む研磨剤を用いてポリシリコン膜を研磨する。この結果、ポリシリコン膜の平坦度は基準値以下となり、例えば張り合わせのための鏡面を得ることができる。

請求項（抜粋）：

水性コロイダルシリカゾルまたはシリカゲルを主成分とし、これに0.001〜0.1重量%のアミンを含む研磨剤を用いてポリシリコン膜を研磨するポリシリコン膜の研磨方法。

IPC (3件)：

H01L 21/304 321 ,  H01L 21/304 ,  B24D 3/00 340