特許

J-GLOBAL ID：200903098561402170

化学剤の除去処理方法及びその処理装置

発明者： 加藤 裕明 ,  永山 賢一 ,  吉岡 律夫 ,  東海林 裕一 ,  宇都宮 一博
出願人/特許権者： 株式会社東芝 ,  東芝プラント建設株式会社
代理人 (1件)： 猪股 祥晃 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-244458
公開番号（公開出願番号）：特開2001-066100
出願日： 1999年08月31日
公開日（公表日）： 2001年03月16日
要約：

【要約】【課題】砲弾内に収納されたVXガス等の化学剤を抜出して無害化処理する。【解決手段】前処理, 解体プロセス、本処理プロセス及び後処理プロセスからなる。前処理, 解体プロセスは砲弾の受取り確認工程から化学剤と外殻、火薬の抜き取りを行う。化学剤抜取り工程まである本処理プロセスは化学剤を無害化処理し、外殻と火薬等の洗浄処理や爆破処理を行う。後処理工程は化学剤の処理後の残渣の後処理を行うとともに、外殻等を洗浄処理した洗浄水、フィルタ等の廃棄物の後処理、残留物等の後処理を行う。本発明では前処理, 解体プロセスを主体としている。

請求項（抜粋）：

外殻内に火薬及び化学剤を装填してなる殻体から前記化学剤を除去する化学剤の除去処理方法において、前記殻体を切断装置又は開孔装置に組み込み固定する装着工程と、前記切断装置又は前記開孔装置で前記外殻に開孔部又は切断部を形成する切断解体工程と、前記開孔部又は切断部から前記外殻内の前記化学剤を抜き取り除去する化学剤抜取り工程とを具備することを特徴とする化学剤の除去処理方法。