特許
J-GLOBAL ID：200903098561416848
マイクロ反応器およびミニ反応器のプロセス付随の洗浄方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
川口 義雄
, 一入 章夫
, 小野 誠
, 大崎 勝真
, 坪倉 道明
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-524716
公開番号（公開出願番号）：特表2005-501696
出願日： 2002年08月23日
公開日（公表日）： 2005年01月20日
要約：
本発明は、制御されたプロセス管理のためおよび化学反応および物理プロセスを実施する際に詰りを防止するためのマイクロ反応器およびミニ反応器プロセス付随の洗浄方法および装置に関する。本発明は、マイクロ反応器もしくはミニ反応器を、後に突然の解除を伴うかまたは周期的すなわち制御装置を用いるガス圧のサージを伴う制御された圧力の増加により洗浄することを特徴とする。化学合成または物理的プロセスに伴う固体物質(単数または複数)により形成される壁の堆積物は、それによりほぼ完全に除去され、その結果、洗浄措置の後は、初期の操作圧力を、マイクロ反応器もしくはミニ反応器に設定することが可能である。マイクロ反応器もしくはミニ反応器の詰りは、かくして避けることができ、前記製造方法のマイクロ反応器もしくはミニ反応器による生産規模への移転が始めて可能となる。上記のことは、とりわけ、懸濁液の形態の遊離体を使用し、および/または固体生成物が発生する、例えばアゾ色素の生産等の反応に当てはまる。
請求項（抜粋）：
媒体流の流速、圧力および/または粘度の単一または複数の急激な変化を、マイクロ反応器もしくはミニ反応器中で進行している化学プロセスまたは物理プロセスの途中で制御しながら起こすことを特徴とする、マイクロ反応器およびミニ反応器をプロセス中で洗浄する方法。
IPC (4件)：
B01J19/00
, B08B5/00
, B08B9/027
, B08B11/00
B01J19/00 321
, B08B5/00 Z
, B08B11/00 D
, B08B9/06
3B116AA12
, 3B116BB88
, 3B116BB90
, 4G075AA02
, 4G075AA39
, 4G075AA51
, 4G075AA62
, 4G075BB03
, 4G075BB05
, 4G075BD16
, 4G075CA05
, 4G075CA80
