特許

J-GLOBAL ID：200903098571965700

高純度ジアルキルアミノシランおよびその製造方法

発明者： 小野 隆
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-171932
公開番号（公開出願番号）：特開2001-002683
出願日： 1999年06月18日
公開日（公表日）： 2001年01月09日
要約：

【要約】【課題】 装置の腐食なく、さらには煩雑な精製工程を必要としない高純度のジアルキルアミノシランを効率よく製造する。【解決手段】 銅触媒存在下、金属ケイ素とジアルキルアミンからジアルキルアミノシランを製造する方法において、銅触媒の原料として融点が300°C以下の銅化合物を用いる、または金属ケイ素と銅化合物の混合物を熱処理し、活性化する。

請求項（抜粋）：

銅触媒存在下、金属ケイ素とジアルキルアミンからジアルキルアミノシランを製造する方法において、銅触媒の原料として融点が300°C以下の銅化合物を用いることを特徴とする、式H4-nSi(NR2)n(n=2〜4、Rはアルキル基)で表される高純度ジアルキルアミノシランの製造方法。

IPC (3件)：

C07F 7/10 ,  C07B 61/00 300 ,  B01J 23/72

FI (3件)：

C07F 7/10 F ,  C07B 61/00 300 ,  B01J 23/72 X

Fターム (15件)：

4H039CA92 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ35 ,  4H049VR11 ,  4H049VR12 ,  4H049VR52 ,  4H049VR53 ,  4H049VR54 ,  4H049VS99 ,  4H049VT04 ,  4H049VT26 ,  4H049VT36 ,  4H049VU24 ,  4H049VV22