特許
J-GLOBAL ID:200903098574326090

蒸気によるワークの処理方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 林 宏 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-049021
公開番号(公開出願番号):特開2002-252199
出願日: 2001年02月23日
公開日(公表日): 2002年09月06日
要約:
【要約】【課題】 蒸気を使用して、ワークの表面にあるレジスト等の有機物を簡単かつ確実に除去できるようにすることにある。【解決手段】 洗浄液13を加熱することによって100°Cより高い温度と飽和蒸気圧より低い蒸気圧とを持つ不飽和蒸気15を発生させ、この不飽和蒸気15を、処理室2内においてノズル6から低温のワーク4に向けて噴射することにより、この不飽和蒸気15の一部をワーク表面に凝縮させて該ワーク4をウエット処理すると共に、この不飽和蒸気15の熱でワーク4を加熱しかつ凝縮した洗浄液を蒸発させて該ワーク4を乾燥させる。
請求項(抜粋):
洗浄液を加熱して100°Cより高い温度と飽和蒸気圧より低い蒸気圧とを持つ不飽和蒸気を発生させ、この不飽和蒸気を、処理室内においてノズルから低温のワークに向けて噴射することにより、この不飽和蒸気の一部をワーク表面に凝縮させて該ワークをウエット処理すると共に、この不飽和蒸気の熱でワークを加熱しかつ凝縮した洗浄液を蒸発させて該ワークにドライ処理と乾燥処理とを施すことを特徴とする蒸気によるワークの処理方法。
IPC (5件):
H01L 21/304 645 ,  H01L 21/304 647 ,  H01L 21/304 651 ,  B08B 3/02 ,  G03F 7/42
FI (5件):
H01L 21/304 645 B ,  H01L 21/304 647 Z ,  H01L 21/304 651 H ,  B08B 3/02 B ,  G03F 7/42
Fターム (15件):
2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096LA02 ,  2H096LA03 ,  3B201AA03 ,  3B201AB33 ,  3B201BB11 ,  3B201BB21 ,  3B201BB82 ,  3B201BB88 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB96 ,  3B201BB98 ,  3B201CC11

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