特許
J-GLOBAL ID：200903098590053754
磁気記録媒体の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-062717
公開番号（公開出願番号）：特開平7-272268
出願日： 1994年03月31日
公開日（公表日）： 1995年10月20日
要約：
【要約】【目的】 保護層とその上に形成される潤滑層との間に不要な吸着物等が介在しないようにすることにより、潤滑層の保護層への付着を確実なものとすると同時に、耐食性低下の要因を排除し、かつ、製造工程のより簡略化を可能にする磁気記録媒体の製造方法を提供する。【構成】 スパッタリング装置1の真空容器14内に設けられた4個のターゲット取付部2,3,4,5のうちの3つには、下地層、磁性層及び保護層形成用のターゲットを取り付け、残り1つに、表面に潤滑剤を塗布・乾燥した潤滑剤塗布プレート10を取り付け、このスパッタリング装置1によってガラス基板22に順次下地層、磁性層及び保護層を形成した後、真空容器14内の雰囲気ガスを排気して、104 〜10-7Paの範囲の真空にし、開閉シャッター12を開くとともに、加熱ヒータ18によって潤滑剤塗布プレートを加熱して潤滑剤を飛散させて保護層26の上に潤滑層27を形成させる。
請求項（抜粋）：
真空背圧のもとでの雰囲気下において、被磁性基体上に、少なくとも磁性層及び保護層を順次成膜した後、この保護層の上に潤滑層を形成して磁気記録媒体を製造する磁気記録媒体の製造方法において、前記潤滑層の形成を、前記保護層形成後において、前記磁性層及び保護層が形成された非磁性基体を大気にさらすことなく行うことを特徴とした磁気記録媒体の製造方法。
引用特許：
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