特許

J-GLOBAL ID：200903098599145937

パターン形成方法

発明者： 山崎 聡 ,  阿部 隆幸 ,  馬越 俊幸 ,  山口 寿男
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-175789
公開番号（公開出願番号）：特開平5-234862
出願日： 1992年07月02日
公開日（公表日）： 1993年09月10日
要約：

【要約】【目的】 キャラクタプロジェクション方式の利点を最大限に活用し、描画時間の短縮化をはかり得るパターン形成方法を提供すること。【構成】 試料を載置したステージを連続移動しながら、該試料上に荷電ビームを照射して所望のパターンを描画するパターン形成方法において、試料上の全描画領域をキャラクタプロジェクション方式で描画可能な繰り返しパターンの存在する領域1と、繰り返しパターンの存在しない領域2とに分け、繰り返しパターンの存在する領域1を、キャラクタプロジェクション方式により荷電ビームで描画し、繰り返しパターンの存在しない領域2を、荷電ビーム又は光で描画し、かつ繰り返しパターンの存在する領域と繰り返しパターンの存在しない領域とで、ステージ移動方式,ステージ移動方向又はステージ速度を異ならせる。

請求項（抜粋）：

試料を載置したステージを連続移動しながら、該試料上に荷電ビームを照射して所望のパターンを描画するパターン形成方法において、前記試料上の全描画領域をキャラクタプロジェクション方式で描画可能な繰り返しパターンの存在する領域と、繰り返しパターンの存在しない領域とに分け、繰り返しパターンの存在する領域を、キャラクタプロジェクション方式により荷電ビームで描画し、繰り返しパターンの存在しない領域を、荷電ビームで描画又は光ステッパにより転写することを特徴とするパターン形成方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 341 J ,  H01L 21/30 301 A ,  H01L 21/30 301 C ,  H01L 21/30 341 K

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭62-114221