特許

J-GLOBAL ID：200903098601696547

光触媒及びその製造方法並びにそれを用いた水素の製造方法

発明者： 楠元 芳文
出願人/特許権者： 楠元 芳文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-129083
公開番号（公開出願番号）：特開2004-330074
出願日： 2003年05月07日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：

【課題】太陽光などに含まれる紫外線及び可視光線を利用しうる光触媒を提供し、この触媒を用いて水素含有化合物(アルコール類)を含む水の分解に使用し、これによって、水素を生成、製造する手段を提供しようするものであり、さらにまた、有害化学物質の分解処理に使用し、これによって、有害物質無害化処理手段を提供しようとするものである。【解決手段】ゼオライトと酸化チタンとの混合系、グラファイトシリカと酸化チタンとの混合系について検討し、水和クラスターに影響を及ぼす可能性のある中間赤外線の効用を持ったグラファイトシリカが酸化チタンの光触媒の活性を高める重要因子であることを見いだした。酸化チタンにグラファイトシリカを適切な比率で混合することにより、高効率の水素を発生する光触媒を得ることができる。

請求項（抜粋）：

酸化チタンと、グラファイトシリカとを主成分とした光触媒。

IPC (4件)：

B01J35/02 ,  B01J21/18 ,  C01B3/04 ,  C01B3/22

FI (4件)：

B01J35/02 J ,  B01J21/18 M ,  C01B3/04 A ,  C01B3/22 A

Fターム (16件)：

4G069AA02 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA16A ,  4G069BA16B ,  4G069BA48A ,  4G069CC33 ,  4G069DA05 ,  4G069EA01X ,  4G069EC22Y ,  4G069FA01 ,  4G069FB05 ,  4G069FC08 ,  4G140DA01 ,  4G140DC01

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 除菌剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-034160   出願人：株式会社西日本環境工学
• 抗菌脱臭素材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-154730   出願人：株式会社日本技術開発センター
• マイナスイオン発生体及びこれを用いてなるマイナスイオン製品
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-220676   出願人：高橋美奈代, 谷元大樹