特許

J-GLOBAL ID：200903098606104354

水系洗浄装置

発明者： 小林 成樹 ,  高梨 守央 ,  児玉 俊一
出願人/特許権者： アンリツ株式会社
代理人 (1件)： 早川 誠志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-109099
公開番号（公開出願番号）：特開平8-283971
出願日： 1995年04月10日
公開日（公表日）： 1996年10月29日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 従来の水系洗浄装置での洗浄装置内の洗浄液、すすぎ槽内のすすぎ液がすぐに汚れて、液寿命が短くなり、またその汚れがワーク引上げ時に再付着し、乾燥後も汚れとして残るという問題を解決すること。【構成】 ワークを洗浄液内で洗浄してワークに付着した油分を浮上分離させる洗浄槽1の他に、洗浄槽1からオーバーフローする洗浄液及び油分を受入れ、仕切りによって洗浄液と油分を分離してそれぞれオーバーフローさせる油分オーバーフロー槽8と、油分オーバーフロー槽8からオーバーフローした洗浄液を受入れる水位槽10と、水位槽10内の洗浄液をフィルター15で浄化して前記洗浄槽1へ戻す循環装置とを設けたため、洗浄液から油分のみが分離され、洗浄液はフィルターで浄化され再循環使用することが出来るとともに油分の付着をなくす。

請求項（抜粋）：

揺動含む外圧発生装置を備え、ワークを洗浄液内で洗浄してワークに付着した油分を浮上分離させる洗浄槽と、前記洗浄槽からオーバーフローする洗浄液及び油分を受入れ、仕切りによって洗浄液と油分混在洗浄液を分離してそれぞれオーバーフローさせる油分オーバーフロー槽と、前記油分オーバーフロー槽から、さらに仕切りによってオーバーフローした洗浄液を受入れる水位槽と、前記水位槽内の洗浄液をフィルターで浄化して前記洗浄槽へ戻す循環装置とを備えた水系洗浄装置。

IPC (4件)：

C23G 3/00 ,  B01D 17/022 501 ,  B08B 3/10 ,  B08B 3/14

FI (4件)：

C23G 3/00 Z ,  B01D 17/022 501 ,  B08B 3/10 Z ,  B08B 3/14