特許
J-GLOBAL ID：200903098608004586
クロマトグラフの再現精度を向上させるためのアクティブポンプの位相調整
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
社本 一夫 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-502761
公開番号（公開出願番号）：特表2002-504970
出願日： 1998年06月05日
公開日（公表日）： 2002年02月12日
要約：
【要約】流体を供給する方法及び装置は、アクティブ位相調整を実行する。このアクティブ位相調整は、供給システムの被動要素の実質的に正確な機械的な位置を積極的に回復させ、これにより、吐出流量の摂動を生じさせることなく、システムの各運転毎の機械的な符号及び流体力学的な特性を正確に復元する。供給システムは、ポンプのピストン(12a、12b)を既知位置へ知能的に駆動して既知圧力で流体を供給するように構成されている。供給システムは、複数のポンプモジュール(10a、10b)を備えており、これらポンプモジュールは各々、ピストン(12a、12b)をそれぞれ有していてモータ駆動されるシリンジを含んでいる。各々のピストンは、供給シリンジの補償供給の制御機構の制御下で往復運動を行うように構成されている。システムの複数のポンプの中の任意のポンプのモータ駆動される独立したシリンジが、供給シリンジとして作用する機能を有しており、この供給シリンジは、規定量の吐出流量を維持すると同時に、各々の複数のポンプの他方のシリンジを負荷の下で再位置決めする。供給シリンジが吐出流量を維持した状態で、再位置決めされている(すなわち、位相調整されている)シリンジは、目標位置及び目標圧力に実質的に同時に到達する。
請求項（抜粋）：
命令された体積及び流量の流体をポンピングシステムによって受容システムに連続的に供給する方法であって、前記ポンピングシステムは、第1のポンプモジュールと、第2のポンプモジュールとを備えており、前記第1のポンプモジュールは、第1のポンプチャンバ及び第1のピストンを有している第1のシリンジを具備しており、また、前記第2のポンプモジュールは、第2のポンプチャンバ及び第2のピストンを有している第2のシリンジを具備しており、 前記第1のポンプチャンバを第1の選択された体積の前記流体で充填し、また、前記第2のポンプチャンバを第2の選択された体積の前記流体で充填する工程と、 選択された体積の前記流体が選択された圧力にある既知の同期位置へ前記第1のピストンを動かして、前記流体を前記受容システムに供給する工程と、 前記第2のポンプモジュールを用いて補償供給量を与えることによって、前記第1のポンプモジュールからの前記流体の供給量を補い、これにより、前記第1のポンプモジュールからの前記供給量及び前記第2のポンプモジュールからの前記供給量の合計が、前記流体の前記命令された体積及び流量に等しくなるようにする工程とを備えており、 前記第1のポンプモジュール及び前記第2のポンプモジュールから供給される供給量によって、前記受容システムに連続的に供給されている前記流体の組成又は流量に対する摂動が実質的に生じないように構成されたこと、を特徴とする方法。
IPC (6件)：
F04B 13/00
, B01D 15/08
, B01J 4/02
, F04B 49/06 311
, G01N 30/26
, G01N 30/32
F04B 13/00 B
, B01D 15/08
, B01J 4/02 B
, F04B 49/06 311
, G01N 30/26 E
, G01N 30/32 C
