特許

J-GLOBAL ID：200903098615516070

露光装置及び露光方法

発明者： 滝沢 正明
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 高月 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-062978
公開番号（公開出願番号）：特開平6-252031
出願日： 1993年02月28日
公開日（公表日）： 1994年09月09日
要約：

【要約】【目的】 位相シフト技術を用いた露光について、その効果を十分に利用して解像度の高い露光を実現できる露光装置、及び露光方法を提供する。【構成】 互いに透過光の位相を異ならしめる構成に形成した露光用主パターン1と補助パターン2〜5とを有する第1の露光マスクM1と、該第1の露光マスクの露光用主パターン1よりも大きい露光用パターン7を有する第2の露光マスクM2とにより順次露光を行う。

請求項（抜粋）：

互いに透過光の位相を異ならしめる構成に形成した露光用主パターンと補助パターンとを有する第1の露光マスクと、該第1の露光マスクの露光用主パターンよりも大きい露光用パターンを有する第2の露光マスクとを備えることを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 311 W ,  H01L 21/30 301 C ,  H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 361 S