特許

J-GLOBAL ID：200903098622847111

画像表示装置の製造方法及び製造装置

発明者： 清 田 敏 也
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-299287
公開番号（公開出願番号）：特開2002-110521
出願日： 2000年09月29日
公開日（公表日）： 2002年04月12日
要約：

【要約】【課題】 帯電防止剤により局所的なTFTの特性異常が発生して引き起こされる不良や、HMDSの昇華物のパーティクル起因と思われるパターン不良を防止する。【解決手段】 レジストベーキング用のホットプレートHPT上に載置された絶縁基板1を剥離する際に、複数のホイストピンHP1〜HP4のうち、少なくとも2つに対して時間差を設けて上昇させることにより、基板の裏面側に帯電防止剤を塗布することなく帯電の発生を防止することができる。また、シリコン材料を含む膜を加工する場合は、レジスト塗布工程においてHMDS処理を行い、金属材料を含む膜を加工する場合は、レジスト塗布工程においてHMDS処理を行わないことにより、HMDS処理により生じるパーティクルに起因するパターン不良を防止することができる。

請求項（抜粋）：

導電性膜を基体の一主面上に成膜する工程と、前記導電性膜上にレジストを塗布する工程と、前記基体の他方の主面を複数のホイストピンを備えたホットプレート上に載置し、前記レジストをベーキングする工程と、前記複数のホイストピンのうち少なくとも2つのホイストピンを時間差を設けて上昇させて前記基体を前記ホットプレートから剥離する工程と、を有する画像表示装置の製造方法。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1368 ,  G03F 7/38 501 ,  G09F 9/00 338

FI (5件)：

G02F 1/13 101 ,  G03F 7/38 501 ,  G09F 9/00 338 ,  H01L 21/30 567 ,  G02F 1/136 500

Fターム (32件)：

2H088FA17 ,  2H088FA18 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088HA02 ,  2H088HA08 ,  2H088MA20 ,  2H092GA59 ,  2H092JA24 ,  2H092JB56 ,  2H092KA04 ,  2H092KA05 ,  2H092MA07 ,  2H092MA18 ,  2H092MA30 ,  2H092NA29 ,  2H096AA28 ,  2H096AA30 ,  2H096CA05 ,  2H096DA01 ,  5F046AA20 ,  5F046HA01 ,  5F046JA22 ,  5F046KA04 ,  5G435AA16 ,  5G435BB12 ,  5G435EE33 ,  5G435GG31 ,  5G435HH12 ,  5G435HH14 ,  5G435KK05 ,  5G435KK10