特許

J-GLOBAL ID：200903098627603989

地熱水の処理方法

発明者： 岡田 秀彦 ,  中平 敦 ,  千田 晋
出願人/特許権者： 科学技術振興事業団
代理人 (1件)： 丸岡 裕作
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-130768
公開番号（公開出願番号）：特開2003-320370
出願日： 2002年05月02日
公開日（公表日）： 2003年11月11日
要約：

【要約】【課題】 地熱水が高温状態でも地熱水からシリカ及びヒ素を容易に除去できるようにするとともに、除去コストも抑制できるようにしてシリカ及びヒ素の除去効率の向上を図る。【解決手段】 地下から取出されシリカ及びヒ素を含む地熱水を、構造式がCa10(PO4 )6 (OH)2 であるハイドロキシアパタイトを含む吸着材に接触させて地熱水中のシリカ及びヒ素を吸着処理する。吸着材を、ハイドロキシアパタイトを90質量%以上含む粉状,粒状または塊状の多孔質体で構成した。また、地熱水を吸着材に接触させる際、温度が100°C〜300°C、圧力が0.2〜30MPaの水熱条件下で行なう。

請求項（抜粋）：

地下から取出されシリカ及びヒ素を含む地熱水からシリカ及びヒ素を除去する地熱水の処理方法において、上記地熱水をハイドロキシアパタイトを含む吸着材に接触させて該地熱水中のシリカ及びヒ素を吸着処理することを特徴とする地熱水の処理方法。

IPC (9件)：

C02F 1/28 ZAB ,  C02F 1/28 ,  B01D 24/02 ,  B01J 20/04 ,  B01J 20/34 ,  B03C 1/00 ,  C02F 1/44 ,  C02F 1/62 ,  F03G 4/00 551

FI (9件)：

C02F 1/28 ZAB Z ,  C02F 1/28 B ,  B01J 20/04 A ,  B01J 20/34 G ,  B03C 1/00 B ,  C02F 1/44 E ,  C02F 1/62 Z ,  F03G 4/00 551 ,  B01D 23/16

Fターム (35件)：

4D006GA02 ,  4D006KA01 ,  4D006KB30 ,  4D006PB08 ,  4D006PB70 ,  4D006PC80 ,  4D024AA09 ,  4D024AB14 ,  4D024AB17 ,  4D024BA11 ,  4D024BB01 ,  4D024BC01 ,  4D024CA01 ,  4D024DA04 ,  4D024DA07 ,  4D024DB03 ,  4D024DB05 ,  4D024DB11 ,  4D024DB18 ,  4D038AA10 ,  4D038AB70 ,  4D038AB84 ,  4D038BB06 ,  4D038BB09 ,  4D038BB17 ,  4D041BB04 ,  4D041CA07 ,  4G066AA17 ,  4G066BA09 ,  4G066BA50 ,  4G066CA21 ,  4G066CA46 ,  4G066DA07 ,  4G066EA20 ,  4G066GA11