特許

J-GLOBAL ID：200903098629150817

レジスト組成物とレジストパターンの形成方法

発明者： 並木 崇久 ,  矢野 映 ,  渡部 慶二 ,  福田 麻奈美
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-327216
公開番号（公開出願番号）：特開平5-158241
出願日： 1991年12月11日
公開日（公表日）： 1993年06月25日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 レジスト組成物とレジストパターンの形成方法に関し、長波長の紫外線に対して感度と解像性に優れたレジストを実用化することを目的とする。【構成】 ハロゲン基,ハロゲン化アルキル基,ポリハロゲン化アルキル基の何れかの置換基を一つ以上構造中に含むと共に下記(1) 式で示される置換基を成分として含む溶解抑止酸発生剤と、アルカリ可溶性樹脂からなる基材樹脂とを含むことを特徴としてレジスト組成物を構成する。(1)式

請求項（抜粋）：

ハロゲン基,ハロゲン化アルキル基,ポリハロゲン化アルキル基の何れかの置換基を一つ以上構造中に含むと共に下記(1) 式で示される置換基を成分として含む溶解抑止酸発生剤と、アルカリ可溶性樹脂からなる基材樹脂とを含むことを特徴とするレジスト組成物。【化1】

IPC (4件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  H01L 21/027