特許

J-GLOBAL ID：200903098676374138

磁気ヘッドスライダのレール面の加工方法

発明者： 庄司 茂 ,  杉浦 正浩
出願人/特許権者： ヤマハ株式会社
代理人 (1件)： 加藤 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-177765
公開番号（公開出願番号）：特開平11-007742
出願日： 1997年06月18日
公開日（公表日）： 1999年01月12日
要約：

【要約】【課題】レール面を2段階の深さにエッチング掘り込みする場合の加工精度を向上させる。【解決手段】 レール面のうち浅い面20および深い面22のいずれも形成しない部分を第1のレジストマスク32で被覆する。第1のレジストマスク32で被覆されていない部分を浅い深さまで第1のエッチング掘り込みをする。次いで第1のレジストマスク32を被覆したまま浅い面20を形成する部分を第2のレジストマスク34で被覆する。第1、第2のレジストマスク32,34で被覆されていない部分を深い深さまで第2のエッチング掘り込みをする。両エッチング掘り込みが終了後第1、第2のレジストマスク32,34をレール面12から剥離する。

請求項（抜粋）：

レール面に浅い深さに掘り込みした浅い面と深い深さに掘り込みした深い面の少くとも2段階の面を形成する磁気ヘッドスライダのレール面の加工方法であって、平坦面に形成されたレール面を上にしてスライダを加工用ベース上に固定し、前記レール面のうち前記浅い面および前記深い面のいずれも形成しない部分を第1のレジストマスクで被覆し、前記第1のレジストマスクで被覆されていない部分を前記浅い深さまで第1のエッチング掘り込みをし、次いで前記第1のレジストマスクを被覆したまま前記浅い面を形成する部分を第2のレジストマスクで被覆し、前記第1、第2のレジストマスクで被覆されていない部分を前記深い深さまで第2のエッチング掘り込みをし、前記両エッチング掘り込みが終了後前記第1、第2のレジストマスクを前記レール面から剥離し、かつ前記スライダを前記加工用ベースから外してなり、前記第1のレジストマスクを前記第1および第2のエッチング掘り込みによる膜減りで消失しない膜厚に被覆し、前記第2のレジストマスクを前記第2のエッチング掘り込みによる膜減りで消失しない膜厚に被覆してなる磁気ヘッドスライダのレール面の加工方法。