特許
J-GLOBAL ID：200903098676495997
芳香族ジカルボン酸ジアリールエステルスルホン酸塩の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前田 純博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-203100
公開番号（公開出願番号）：特開2003-012635
出願日： 2001年07月04日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
要約：
【要約】【課題】 本発明の目的は、芳香族ジカルボン酸ジアリールエステルスルホン酸塩を工業的に有用な方法により製造する方法を提供することにある。【解決手段】 特定の芳香族ジカルボン酸スルホン酸塩とジアリールカーボネートとを、非プロトン性極性溶媒及びエステル交換触媒の存在下加熱反応させることにより芳香族ジカルボン酸ジアリールエステルスルホン酸塩を製造する方法であって、該芳香族ジカルボン酸スルホン酸塩1モルに対し(1)該ジアリールカーボネートを2から3モルの割合とし、(2)該非プロトン性極性溶媒を1から100モルの割合とし、かつ(3)加熱反応温度を200°Cから320°Cとする、芳香族ジカルボン酸ジアリールエステルスルホン酸塩の製造方法。
請求項（抜粋）：
下記式(A)で示される芳香族ジカルボン酸スルホン酸塩と、下記式(B)で示されるジアリールカーボネートとを、非プロトン性極性溶媒及びエステル交換触媒の存在下加熱反応させることにより、下記式(C)で示される芳香族ジカルボン酸ジアリールエステルスルホン酸塩を製造する方法であって、加熱反応温度を200°Cから320°Cとし、該芳香族ジカルボン酸スルホン酸塩1モルに対し(1)該ジアリールカーボネートを2から3モルの割合とし、かつ(2)該非プロトン性極性溶媒を0.1から50モルの割合とする、芳香族ジカルボン酸ジアリールエステルスルホン酸塩の製造方法。【化1】[但し、R1およびR2はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、アルコキシ基またはアリール基であり、M+はアルカリ金属イオンを表わす。]
IPC (3件)：
C07C303/32
, C07C309/58
, C07B 61/00 300
C07C303/32
, C07C309/58
, C07B 61/00 300
4H006AA02
, 4H006AC40
, 4H006BA51
, 4H006BB23
, 4H006BB41
, 4H006BB42
, 4H006BC10
, 4H006BC31
, 4H006BC35
, 4H039CA66
, 4H039CD30
, 4H039CD40
