特許
J-GLOBAL ID:200903098703089726
半導体露光装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
寒川 誠一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-160480
公開番号(公開出願番号):特開平6-005691
出願日: 1992年06月19日
公開日(公表日): 1994年01月14日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 ウェーハまたはマスクの露光装置、特に、ウェーハまたはマスクをセットするアライメントステージに関し、露光時のデフォーカスが発生しないようにし、また、ダストによる局部的デフォーカスが発生しないようにするアライメントステージを有する半導体露光装置を提供することを目的とする。【構成】 搬送用レール4と、搬送用レール4に沿ってx,y方向に移動し、先端に被露光物12を吸着する回転可能な吸着部6を有する搬送アーム5と、搬送アーム5によって搬送された被露光物12を吸着する真空チャック8を有するステージ7と、ステージ7の裏面から表面に向けてレーザ光を照射する少なくとも三つのレーザ照射手段9と、レーザ照射手段9に対応して設けられたレーザ検出手段10とからなるアライメントステージを有する半導体露光装置である。
請求項(抜粋):
搬送用レール(4)と、該搬送用レール(4)に沿ってx,y方向に移動し、先端に被露光物(12)を吸着する回転可能な吸着部(6)を有する搬送アーム(5)と、該搬送アーム(5)によって搬送された前記被露光物(12)を吸着する真空チャック(8)を有するステージ(7)と、該ステージ(7)の裏面から表面に向けて光を照射する少なくとも三つの発光手段(9)と、該発光手段(9)に対応して設けられた光検出手段(10)と、前記搬送アーム(5)によって搬送された前記被露光物(12)を前記ステージ(7)上に受け渡す受け渡しピン(11)とからなるアライメントステージを有することを特徴とする半導体露光装置。
IPC (3件):
H01L 21/68
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
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