特許

J-GLOBAL ID：200903098709259461

基板処理装置

発明者： 橋本 宜明
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 稲垣 清
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-255054
公開番号（公開出願番号）：特開2000-084515
出願日： 1998年09月09日
公開日（公表日）： 2000年03月28日
要約：

【要約】【課題】 安全性およびプロセス清浄性を維持しつつ、排気量の削減および排気による薬液持ち出しの削減が可能な基板処理装置を提供する。【解決手段】 本基板処理装置では、隣接する薬液処理室13間に第1の排気用空間部8が形成され、薬液処理室13を密閉する上蓋6と内蓋7との間に第2の排気用空間部9が形成され、第1の排気用空間部8に第1の排気用空間部8と薬液処理室13との遮断および連通を行なうシャッタ12が設けられ、第1の排気用空間部8および第2の排気用空間部9に薬液処理室13の排気を行なう排気管20、21が設けられてなる。

請求項（抜粋）：

基板に所定の処理を施すように基板の搬送方向に配置された複数個の処理室を備え、処理室内で基板にそれぞれ所定の処理を行う基板処理装置において、処理室との遮断および連通を行なう開閉手段と、第1の排気手段とを有し、隣接する処理室同士の少なくとも1か所の処理室間に設けられた第1の排気用空間部と、少なくとも1個の処理室の上部に、処理室間又は第1の排気用空間部と処理室との遮断および連通を行なう開閉手段とは別に開閉扉として設けられた二重蓋の蓋間に設けられ、第2の排気手段を有する第2の排気用空間部とを備えていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (5件)：

B08B 15/04 ,  B08B 3/02 ,  F26B 15/04 ,  H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304

FI (6件)：

B08B 15/04 ,  B08B 3/02 C ,  F26B 15/04 ,  H01L 21/304 648 L ,  H01L 21/304 648 A ,  H01L 21/304 648 H

Fターム (33件)：

3B117AA02 ,  3B117BA22 ,  3B117BA51 ,  3B201AA03 ,  3B201AB25 ,  3B201BB24 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  3B201CD11 ,  3B201CD31 ,  3B201CD42 ,  3B201CD43 ,  3L113AA01 ,  3L113AB10 ,  3L113AC23 ,  3L113AC31 ,  3L113AC45 ,  3L113AC46 ,  3L113AC48 ,  3L113AC54 ,  3L113AC57 ,  3L113AC63 ,  3L113AC67 ,  3L113AC75 ,  3L113AC78 ,  3L113AC79 ,  3L113AC90 ,  3L113BA34 ,  3L113CA16 ,  3L113DA06 ,  3L113DA21 ,  3L113DA24 ,  3L113DA30