特許
J-GLOBAL ID：200903098712284442
エッジ位置ずれ量の算出方法、検証方法、検証プログラム、及び検証システム。
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
外川 英明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-074821
公開番号（公開出願番号）：特開2004-279997
出願日： 2003年03月19日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：
【課題】計算負荷を大幅に低減させることができる、高速計算可能なエッジ位置ずれ量の算出方法、検証方法、検証プログラム及び検証システムを提供する。【解決手段】所望パターン1と所望パターンを達成するための設計パターン2を形成し、所望パターン1をウェハ上に形成するための基準光強度5を設定し、所望パターン1の平面形状とウェハ上の仕上がりパターン平面形状との比較を行うための評価点11を設定し、評価点11での光強度を算出し、評価点11での光強度の微分量を算出し、微分量と基準光強度5との交点14を算出し、交点14と評価点11との差分を算出し、この差分を仕上がりパターンの所望パターンに対するエッジ位置ずれ量とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
所望パターンの平面形状と、設計パターンから光強度計算に基づいて予測されたウェハ上の仕上がりパターンとを比較して、前記仕上がりパターンの前記所望パターンに対するエッジ毎の位置ずれ量を算出する方法であって、前記所望パターンをウェハ上に形成するための基準光強度を設定する工程と、
前記所望パターンの平面形状と、前記仕上がりパターン平面形状との比較を行うための評価点を設定する工程と、
前記評価点での光強度を算出する工程と、
前記評価点での光強度の微分量を算出する工程と、
前記微分量と前記基準光強度との交点を算出する工程と、
前記交点と前記評価点との差分を算出する工程と、
を備え、
前記差分を前記仕上がりパターンの前記所望パターンに対するエッジ位置ずれ量としたことを特徴とするエッジ位置ずれ量の算出方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/08 A
, H01L21/30 502P
