特許

J-GLOBAL ID：200903098712480020

偏光素子及びその製造方法、並びに偏光素子用高分子複合体及びその製造方法

発明者： 榎本 正 ,  伊藤 啓之
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 逢坂 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-068964
公開番号（公開出願番号）：特開2008-233215
出願日： 2007年03月16日
公開日（公表日）： 2008年10月02日
要約：

【課題】 透明性や偏光特性を損なうことなく、高温下での熱安定性を向上させた偏光素子及びその製造方法、並びにその素材である偏光素子用高分子複合体及びその製造方法を提供すること。【解決手段】 まず、アミロース部分のヒドロキシ基を酸化して、アルコキシルラジカルを生成させ、これを開始点とする酢酸ビニルの重合反応とその後の加水分解によってポリビニルアルコール部分を生成させ、アミロース-ポリビニルアルコールグラフト共重合体を形成する。次に、ポリビニルアルコールとアミロースとアミロース-ポリビニルアルコールグラフト共重合体とを溶解させた溶液から、キャスト法などによってこれらを含む高分子複合体層を形成する。次に、この高分子複合体層を一軸延伸し、高分子鎖を配向させた後、この高分子鎖にポリヨウ化物イオンI2n+1-などの二色性物質を保持させ、偏光層を形成する。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

配向した高分子鎖を有する高分子樹脂層に二色性物質が保持されて形成された偏光層を有する偏光素子において、 前記高分子樹脂層が、 ポリビニルアルコールと、 アミロース部分とポリビニルアルコール部分とのブロック共重合体と を含む高分子複合体からなることを特徴とする、偏光素子。

IPC (1件)：

G02B 5/30

FI (1件)：

G02B5/30

Fターム (6件)：

2H049BA02 ,  2H049BA27 ,  2H049BB22 ,  2H049BB42 ,  2H049BB43 ,  2H049BC22

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 米国特許第2237567号明細書(第1及び2頁、図1及び2)
  
• 偏光フィルムおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-339068   出願人：三和澱粉工業株式会社, 江崎グリコ株式会社, 大阪府