特許

J-GLOBAL ID：200903098716011645

直流アーク放電プラズマによる表面処理方法

発明者： 奥井 徳次郎
出願人/特許権者： 奥井 徳次郎
代理人 (1件)： 押田 良久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-282521
公開番号（公開出願番号）：特開2000-109979
出願日： 1998年10月05日
公開日（公表日）： 2000年04月18日
要約：

【要約】【課題】 基板上の目的とする領域のみに処理を施すことができる上、簡易な手段で処理面積の大面積化にも十分に対応できるアーク放電プラズマによる表面処理方法の提案。【解決手段】 2つの電極間に放電用および処理用ガスを供給し直流電圧を印加することにより該電極間に発生するアーク放電によるプラズマを用いて表面処理する方法であって、固定された基板に対して前記プラズマ発生源を移動させる方式、または前記プラズマ発生源を固定し基板側を移動させる方式により表面処理することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

2つの電極間に放電用および処理用ガスを供給し直流電圧を印加することにより該電極間に発生するアーク放電によるプラズマを用いて表面処理する方法であって、固定された基板に対して前記プラズマ発生源を移動させる方式、または前記プラズマ発生源を固定し基板側を移動させる方式により表面処理することを特徴とする直流アーク放電プラズマによる表面処理方法。

IPC (2件)：

C23C 16/50 ,  H05H 1/24

FI (2件)：

C23C 16/50 ,  H05H 1/24

Fターム (25件)：

4K030AA03 ,  4K030AA04 ,  4K030AA06 ,  4K030AA10 ,  4K030AA11 ,  4K030AA13 ,  4K030AA16 ,  4K030AA18 ,  4K030AA24 ,  4K030BA01 ,  4K030BA08 ,  4K030BA18 ,  4K030BA28 ,  4K030BA29 ,  4K030BA37 ,  4K030BA38 ,  4K030BB03 ,  4K030BB12 ,  4K030CA07 ,  4K030FA01 ,  4K030GA12 ,  4K030GA14 ,  4K030KA16 ,  4K030KA30 ,  4K030KA41