特許
J-GLOBAL ID：200903098716367687
プラズマX線発生装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-171155
公開番号（公開出願番号）：特開2005-353736
出願日： 2004年06月09日
公開日（公表日）： 2005年12月22日
要約：
【課題】 光学系の損傷及び発生させるX線の吸収損失を抑制したプラズマX線源を提供する。【解決手段】 真空容器11と、該真空容器11内に設置され、プラズマ生成放電電極15,16間に形成されるプラズマ生成部17に供給される作動ガスGをプラズマ化してX線を発生させるプラズマX線源13と、上記プラズマ生成部17において発光有効時間を経過した残留プラズマDを排気する排気手段12と、上記プラズマ生成放電電極15から離れて形成され、プラズマ生成放電電極15より電位の低い低電圧電極とを備え、残留プラズマDを低電位電極による静電気力により加速させて高速排気するものである。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
真空容器と、該真空容器内に設置され、プラズマ生成放電電極間に形成されるプラズマ生成部に供給される作動ガスをプラズマ化してX線を発生させるプラズマX線源と、上記プラズマ生成部において発光有効時間を経過した残留プラズマを排気する排気手段と、上記プラズマ生成放電電極から離れて形成され、プラズマ生成放電電極より電位の低い低電圧電極とを備え、
上記残留プラズマを上記低電位電極による静電気力により加速させて高速排気することを特徴とするプラズマX線発生装置。
IPC (5件)：
H01L21/027
, G03F7/20
, G21K5/02
, H05G2/00
, H05H1/24
H01L21/30 531S
, G03F7/20 521
, G21K5/02 X
, H05H1/24
, H05G1/00 K
4C092AA07
, 4C092AB19
, 4C092AC09
, 4C092BD04
, 5F046GC03
出願人引用 (2件)
審査官引用 (5件)
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