ガスデポジション装置および方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-062535
公開番号（公開出願番号）：特開2000-256830
出願日： 1999年03月10日
公開日（公表日）： 2000年09月19日
要約：

【要約】【課題】ノズルからの超微粒子の噴射を任意に停止または開始することが出来、それにより、任意に超微粒子の堆積膜を形成出来、さらに、超微粒子排出室に貯蔵した超微粒子を再利用することにより超微粒子材料の使用効率を向上させたガスデポジション装置および方法を提供する。【解決手段】ガスデポジション装置が、吸入管に吸い込まれた超微粒子の搬送管への搬送の開始または停止を任意に行う機構を有する。ここで、超微粒子の搬送管への搬送の開始または停止を任意に行う機構は、例えば搬送管または超微粒子を排出するための排出管を任意に選択する搬送切り替え機構である。

請求項（抜粋）：

蒸発源および該蒸発源の上方に吸入管の開口部を設けた超微粒子生成室と、該吸入管と連結する搬送管の他開口部に結合されたノズルおよびこれに対向して配設される基板を固定するステージを設けた膜形成室とから成り、該蒸発源より蒸発する超微粒子を該超微粒子生成室内に導入されるガスと共に該搬送管中を搬送し、該ノズルから噴射する該超微粒子を該基板上に堆積させることにより膜形成するガスデポジション装置において、該吸入管に吸い込まれた該超微粒子の該搬送管への搬送の開始または停止を任意に行う機構を有することを特徴とするガスデポジション装置。

Fターム (7件)：

4K029AA09 , 4K029BA08 , 4K029CA01 , 4K029DA02 , 4K029DA04 , 4K029DB03 , 4K029DB15

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