特許
J-GLOBAL ID：200903098719572184
レーザ発光装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
藤本 昇
, 薬丸 誠一
, 中谷 寛昭
, 岩田 徳哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-144211
公開番号（公開出願番号）：特開2006-324334
出願日： 2005年05月17日
公開日（公表日）： 2006年11月30日
要約：
【課題】 安定したレーザ光を出射でき且つ装置の小型化及び省コスト化を同時に図ることができるレーザ発光装置を提供することを課題とする。【解決手段】 半導体レーザ素子と、該半導体レーザ素子の出力光が入射され、内部にファイバブラッググレーチングが形成される光ファイバと、該光ファイバの出射光を高調波へ変換する波長変換素子と、前記半導体レーザを温度調整する温調手段とを備えるレーザ発光装置において、前記ファイバブラッググレーチングは、前記光ファイバの長さ方向における途中位置に形成され、前記温調手段から前記ファイバブラッググレーチングまでの熱伝達経路の距離が、前記温調手段から半導体レーザ素子までの熱伝達経路の距離とほぼ均等になるように前記ファイバブラッググレーチングが配置され、前記温調手段によって前記ファイバブラッググレーチングも温度調節されることを特徴とする。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
半導体レーザ素子と、該半導体レーザ素子の出力光が入射され、内部にファイバブラッググレーチングが形成される光ファイバと、該光ファイバの出射光を高調波へ変換する波長変換素子と、前記半導体レーザを温度調整する温調手段とを備えるレーザ発光装置において、前記ファイバブラッググレーチングは、前記光ファイバの長さ方向における途中位置に形成され、前記温調手段から前記ファイバブラッググレーチングまでの熱伝達経路の距離が前記温調手段から半導体レーザ素子までの熱伝達経路の距離とほぼ均等になるように前記ファイバブラッググレーチングが配置され、前記温調手段によって前記ファイバブラッググレーチングも温度調整されることを特徴とするレーザ発光装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (22件)：
5F173MA06
, 5F173MB10
, 5F173MC01
, 5F173MC15
, 5F173ME22
, 5F173ME52
, 5F173ME58
, 5F173ME64
, 5F173ME67
, 5F173ME87
, 5F173MF05
, 5F173MF14
, 5F173MF23
, 5F173SA09
, 5F173SA12
, 5F173SC07
, 5F173SE01
, 5F173SF03
, 5F173SF32
, 5F173SF47
, 5F173SF54
, 5F173SF76
出願人引用 (3件)
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発光装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2002-011322
出願人：ノーリツ鋼機株式会社
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レーザ発生装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2003-202778
出願人：ノーリツ鋼機株式会社
-
レーザ装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2003-202835
出願人：ノーリツ鋼機株式会社
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