特許
J-GLOBAL ID:200903098727414105

電子部品及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 阿部 美次郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-192031
公開番号(公開出願番号):特開2003-008307
出願日: 2001年06月25日
公開日(公表日): 2003年01月10日
要約:
【要約】【課題】高周波帯域のQ値を向上し得、かつ、高周波帯域の損失を低減し得る電子部品を提供する。【解決手段】金属メッキ膜21は、誘電体1上に形成され、その残留応力Sが、-33.4kg/mm2≦S≦33.4kg/mm2を満たす。
請求項(抜粋):
誘電体と、少なくとも1つの金属メッキ膜とを含む電子部品であって、前記金属メッキ膜は、前記誘電体上に形成され、その残留応力をSとしたとき、-33.4kg/mm2≦S≦33.4kg/mm2を満たす電子部品。
IPC (5件):
H01P 3/02 ,  C25D 5/54 ,  C25D 7/00 ,  H01P 7/04 ,  H01P 7/08
FI (5件):
H01P 3/02 ,  C25D 5/54 ,  C25D 7/00 G ,  H01P 7/04 ,  H01P 7/08
Fターム (15件):
4K024AA02 ,  4K024AA03 ,  4K024AA07 ,  4K024AA09 ,  4K024AB01 ,  4K024AB02 ,  4K024AB03 ,  4K024AB15 ,  4K024BA15 ,  4K024BB09 ,  4K024CA06 ,  4K024DA10 ,  5J006HA03 ,  5J006HB03 ,  5J006LA02
引用特許:
審査官引用 (6件)
  • 特開昭63-013504
  • 特開昭63-013504
  • 特開平2-166294
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引用文献:
審査官引用 (3件)

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