特許

J-GLOBAL ID：200903098730151913

HC浄化部材

発明者： 中 貴弘 ,  遠藤 哲雄 ,  清水 治彦 ,  藤澤 義和
出願人/特許権者： 本田技研工業株式会社
代理人 (1件)： 落合 健 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-240097
公開番号（公開出願番号）：特開平7-096183
出願日： 1993年09月27日
公開日（公表日）： 1995年04月11日
要約：

【要約】【目的】 耐久性の優れたHC(炭化水素)浄化部材を提供する。【構成】 HC浄化部材11 は、ゼオライトを主成分とするHC吸着層5と、そのゼオライトとの高温下での接触により触媒能が劣化するPd酸化物を備えた多孔質HC酸化層7と、HC吸着層5およびHC酸化層7間に在ってPd酸化物のゼオライトとの接触を防止する多孔質バリヤ層6とより構成される。

請求項（抜粋）：

HC吸着層(5)と、そのHC吸着層(5)との接触により触媒能が劣化する触媒素子を備えた多孔質HC酸化層(7)と、前記HC吸着層(5)およびHC酸化層(7)間に在って前記触媒素子の前記HC吸着層(5)との接触を防止する多孔質バリヤ層(6)とより構成したことを特徴とするHC浄化部材。

IPC (7件)：

B01J 20/28 ZAB ,  B01D 53/02 ZAB ,  B01D 53/72 ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/94 ,  B01J 20/18 ZAB ,  B01J 29/068 ZAB

FI (3件)：

B01D 53/34 120 D ,  B01D 53/36 ZAB ,  B01D 53/36 104 Z