特許
J-GLOBAL ID：200903098734803540
蛍光X線の分析方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉本 修司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-318527
公開番号（公開出願番号）：特開平5-126768
出願日： 1991年11月05日
公開日（公表日）： 1993年05月21日
要約：
【要約】【目的】 試料に含まれた元素の回折X線によるノイズをなくして、低含有量の元素についても、S/N比を改善して蛍光X線の分析精度を高める。【構成】 試料1を試料上の所定点まわりに180°以上回転させながら、この試料1に1次X線を照射することで、試料1から発生する蛍光X線および回折X線を含んだ2次X線を検出する。この検出により得られた2次X線強度が最小値を示す回転方向位置に試料1を位置決めする。このような位置決め後において、試料を、その主面に平行な面内で互いに直交するXY方向に移動させて試料の主面全域の蛍光X線分析を行なう。
請求項（抜粋）：
試料の蛍光X線分析に先立って、上記試料を試料上の所定点まわりに180°以上回転させながら、この試料に1次X線を照射して、試料から発生する蛍光X線および回折X線を含んだ2次X線を検出し、得られた2次X線強度が最小値を示す回転方向位置に試料を位置決めし、この状態で試料を、その主面に平行な面内で互いに直交するXY方向に移動させて試料の主面全域の蛍光X線分析を行なう蛍光X線の分析方法。
引用特許：
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