特許
J-GLOBAL ID：200903098736548424
投影露光装置用マスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-197457
公開番号（公開出願番号）：特開平5-019447
出願日： 1991年07月12日
公開日（公表日）： 1993年01月29日
要約：
【要約】【目的】 既存の装置をそのまま用いて傾斜照明を容易に実現するための投影露光用マスクを提供する。【構成】 微細パタンの投影露光装置に用いるマスクであって、照射光Iを投影レンズの開口数に応じて傾ける機能を有する光学素子として例えば位相型グレーティング14をマスク基板11のパタン面の光源側に配置し、これらのグレーティング14とマスク基板11とを一体化してマスク16を構成する。これにより、グレーティング14とマスク基板11の装着や着脱が同時できるとともに、既存の投影露光装置を改造することなく投影レンズの最高の解像度で結像できる。しかも、位相シフトマスクを用いずとも従来装置による位相シフトマスク法と同等の解像度を任意のパタンに対して達成できる。
請求項（抜粋）：
パタンの描かれたマスクを照射して、投影光学系によりその像を形成してパタン形成を行う微細パタン投影露光で用いる投影露光装置用マスクにおいて、遮光パタンが配置されたマスク基板面に垂直な照射光を所定の角度だけ傾ける機能を持つ光学素子を該マスク基板と一体に設けたことを特徴とする投影露光装置用マスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 L
