特許
J-GLOBAL ID：200903098737120533

塗布製造方法および塗布製造物

発明者：
青木 圭一

青木 圭一 について


出願人/特許権者：
コニカ株式会社

コニカ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-001459
公開番号（公開出願番号）：特開2001-191018
出願日： 2000年01月07日
公開日（公表日）： 2001年07月17日
要約：
【要約】【課題】 塗膜外観にムラや欠陥を生じたり、塗膜中の残留溶媒が適正量でなかったり、残留溶媒量のバラツキを生じない塗布製造方法および塗布製造物を得ることが出来た。【解決手段】 高分子バインダと溶媒とを含有する塗布液を、支持体上に塗膜として塗布する塗布工程と、加熱雰囲気温度において前記塗膜中の前記溶媒を蒸発させる加熱雰囲気乾燥工程とを有する塗布製造方法において、前記加熱雰囲気乾燥工程中少なくとも30秒以上は、前記高分子バインダのガラス転移温度Tg[°C]と前記加熱雰囲気温度Tair[°C]とが、下記関係式(1)を満たすことを特徴とする塗布製造方法。(1) Tg-50 ≦ Tair ≦ Tg
請求項（抜粋）：
高分子バインダと溶媒とを含有する塗布液を、支持体上に塗膜として塗布する塗布工程と、加熱雰囲気温度において前記塗膜中の前記溶媒を蒸発させる加熱雰囲気乾燥工程とを有する塗布製造方法において、前記加熱雰囲気乾燥工程中少なくとも30秒以上は、前記高分子バインダのガラス転移温度Tg[°C]と前記加熱雰囲気温度Tair[°C]とが、下記関係式(1)を満たすことを特徴とする塗布製造方法。(1) Tg-50 ≦ Tair ≦ Tg
IPC (3件)：
B05D 3/02 ,  B05D 1/26 ,  G03C 1/74
FI (4件)：
B05D 3/02 E ,  B05D 3/02 F ,  B05D 1/26 Z ,  G03C 1/74
Fターム (19件)：
2H023EA00 ,  2H023EA05 ,  4D075AC05 ,  4D075BB24Z ,  4D075BB32Z ,  4D075BB35Z ,  4D075BB37Z ,  4D075BB93Z ,  4D075BB95Z ,  4D075DB07 ,  4D075DB18 ,  4D075DB36 ,  4D075EB10 ,  4D075EB15 ,  4D075EB22 ,  4D075EB35 ,  4D075EB38 ,  4D075EB39 ,  4D075EB53
引用特許：
審査官引用 (4件)
  • 特開平3-136053
  • 特開昭53-055217
  • 特開昭62-171772
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引用文献：
審査官引用 (1件)
  • 塗装ハンドブック, 19961120, 初版第1刷, 第182頁 7.2.5a.セッティング

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