特許
J-GLOBAL ID：200903098743522163

水素溶解水製造装置

発明者：
山下 幸福

山下 幸福 について

, 
二ツ木 高志

二ツ木 高志 について


出願人/特許権者：
オルガノ株式会社

オルガノ株式会社 について


代理人 (1件)： 細井 勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-005879
公開番号（公開出願番号）：特開2003-205299
出願日： 2002年01月15日
公開日（公表日）： 2003年07月22日
要約：
【要約】【課題】 水素溶解水の製造において、パラジウム触媒による過酸化水素除去処理時に生じる不純物を除去して、水素溶解水の水質低下を防止できる水素溶解水製造装置を提供する。【解決手段】 超純水製造装置1の後段に脱ガス装置10、水素溶解装置12、パラジウム触媒塔17を順次設け、パラジウム触媒塔17の処理水出口側に不純物除去装置19を連結する。不純物除去装置19はパラジウム触媒塔17による処理の際に被処理水に溶出する不純物イオンや、被処理水に混入する不純物微粒子を除去するもので、イオン交換装置20と限外ろ過膜装置、逆浸透膜装置等の膜処理装置21とからなる。
請求項（抜粋）：
脱ガス処理した超純水に水素を溶解する水素溶解装置と、超純水に含有された過酸化水素を除去するパラジウム触媒装置と、該パラジウム触媒装置の処理水出口側に設けた不純物除去装置とからなることを特徴とする水素溶解水製造装置。
IPC (19件)：
C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 504 ,  B01D 19/00 ,  B01D 61/08 ,  B01D 61/18 ,  B08B 3/08 ,  C01B 3/00 ,  C02F 1/20 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/44 ,  C02F 1/68 510 ,  C02F 1/68 520 ,  C02F 1/68 530 ,  C02F 1/68 540 ,  C02F 1/68 ,  C02F 1/70 ,  H01L 21/304 647
FI (23件)：
C02F 9/00 502 Z ,  C02F 9/00 502 F ,  C02F 9/00 502 G ,  C02F 9/00 502 J ,  C02F 9/00 503 B ,  C02F 9/00 504 B ,  C02F 9/00 504 E ,  B01D 19/00 H ,  B01D 61/08 ,  B01D 61/18 ,  B08B 3/08 Z ,  C01B 3/00 Z ,  C02F 1/20 A ,  C02F 1/42 A ,  C02F 1/44 A ,  C02F 1/68 510 A ,  C02F 1/68 520 B ,  C02F 1/68 530 A ,  C02F 1/68 540 C ,  C02F 1/68 540 D ,  C02F 1/68 540 H ,  C02F 1/70 Z ,  H01L 21/304 647 Z
Fターム (44件)：
3B201AA03 ,  3B201CB11 ,  3B201CD22 ,  4D006GA03 ,  4D006GA06 ,  4D006GA32 ,  4D006KA01 ,  4D006KB11 ,  4D006KB17 ,  4D006KB30 ,  4D006PA01 ,  4D006PB02 ,  4D006PC01 ,  4D011AA16 ,  4D011AA17 ,  4D011AD03 ,  4D025AA01 ,  4D025AB08 ,  4D025BA08 ,  4D025BA13 ,  4D025BB02 ,  4D025BB04 ,  4D025BB07 ,  4D025DA01 ,  4D025DA05 ,  4D025DA10 ,  4D037AA01 ,  4D037AB11 ,  4D037AB12 ,  4D037BA23 ,  4D037BB07 ,  4D037CA03 ,  4D037CA09 ,  4D037CA15 ,  4D050AA01 ,  4D050AB33 ,  4D050BA14 ,  4D050BC06 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4D050CA03 ,  4D050CA08 ,  4D050CA09 ,  4G040AB03
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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