特許
J-GLOBAL ID：200903098762278257
凹表面構造の手袋及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-049519
公開番号（公開出願番号）：特開2002-249909
出願日： 2001年02月26日
公開日（公表日）： 2002年09月06日
要約：
【要約】【課題】 発泡スポンジ断面層のような凹構造を皮膜表面に均一かつ密に有した手袋およびその製造方法を提供する。【解決手段】 手袋基材の表面をポリ塩化ビニル樹脂材料またはゴム材料で被覆し、被覆した材料の半ゲル化時にワックスを散布し、その後に加熱処理して成膜し、膜面のワックスを洗浄除去することにより、微細な凹部を表面に有した皮膜を前記手袋基材上に形成する。
請求項（抜粋）：
手袋基材の表面をポリ塩化ビニル樹脂材料またはゴム材料で被覆し、被覆した材料の半ゲル化時にワックスを散布し、その後に加熱処理して成膜し、膜面のワックスを洗浄除去することにより、微細な凹部を表面に有した皮膜を前記手袋基材上に形成することを特徴とする凹表面構造の手袋の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
A41D 19/04 A
, A41D 19/00 P
3B033AB02
, 3B033AC01
, 3B033AC03
, 3B033BA03
