特許
J-GLOBAL ID：200903098791520903
X線露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-019138
公開番号（公開出願番号）：特開平5-217857
出願日： 1992年02月04日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：
【要約】【目的】 X線源側と露光光学系側との間にフィルタを設け、フィルタの両側の真空度が異なるように設定したX線露光装置において、該フィルタの信頼性および装置のスループットを向上させる。【構成】 X線源1から発するX線をマスク5上に照射して該マスク上のパターンをウエハ7に投影するX線露光光学系6、これらを真空空間中に維持する真空容器8、およびX線源1が設置される真空空間とX線露光光学系6が設置される真空空間とを分離する第1のフィルタ3、からなるX線露光装置において、X線源1と第1のフィルタ3との間のX線光路上にX線は透過し可視光は透過しない第2のフィルタ2を設置した。
請求項（抜粋）：
X線源と、該X線源から発するX線をマスク上に照射するための前置光学系と、前記マスク上のパターンをウエハに投影するための縮小投影光学系と、前記X線源からウエハまでのX線の光路を真空空間中に維持する真空容器と、X線が透過可能な物質で形成され、前記X線源と縮小投影光学系の間のX線の光路上に設けられてX線が入射する側の真空空間とX線が出射する側の真空空間とを分離するための第1のフィルタと、からなるX線露光装置において、前記X線源と第1のフィルタとの間のX線光路上に、X線は透過し可視光は透過しない第2のフィルタを設置したことを特徴とするX線露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 503
, G03F 7/20 521
