特許
J-GLOBAL ID：200903098791662783
磁気ディスクおよびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-099104
公開番号（公開出願番号）：特開平6-044559
出願日： 1992年04月20日
公開日（公表日）： 1994年02月18日
要約：
【要約】【構成】 アルゴンガスの圧力を10mTorr未満でかつ基板のバイアス電圧を-200ボルト未満としてカーボンターゲットを用いてスパタリングによって磁性膜の上に硬いカーボン膜の第一の保護膜を設け、アルゴンガスの圧力を10mTorr以上でかつ基板のバイアス電圧を-200ボルト以上としてカーボンターゲットを用いてスパタリングによって第一の保護膜の上に表面が粗いカーボン膜の第二の保護膜を設ける。【効果】 潤滑膜がなくても充分に低い静摩擦係数でしかも耐久性がある保護膜を形成することができる。
請求項（抜粋）：
磁性膜の上に硬いカーボン膜の第一の保護膜を設け、前記第一の保護膜の上に表面が粗いカーボン膜の第二の保護膜を設けたことを特徴とする磁気ディスク。
IPC (3件)：
G11B 5/72
, G11B 5/82
, G11B 5/84
