特許
J-GLOBAL ID:200903098793967026
塗布方法及び装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
萩野 平 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-281039
公開番号(公開出願番号):特開平6-106121
出願日: 1992年09月28日
公開日(公表日): 1994年04月19日
要約:
【要約】【目的】 塗布液のスジムラや段ムラのない均一な薄層塗膜を高速で形成する塗布方法及び装置を提供する。【構成】 非加圧型のエクストルージョン型塗布ヘッド10により、塗布液を塗布する塗布方法で、塗布開始時或いは塗布再開時に、支持体1 を走行させた状態にて最初前記支持体にプレコート液を前記塗布ヘッドよりも上流側で塗布し、次いで前記支持体を前記フロントエッジにラップさせると共に、前記支持体と前記バックエッジの先端部との距離を150μm以下の状態にしたのち、前記スリットから前記塗布液を吐出し、その後前記距離を定常塗布の距離に戻して塗布するようにすると共に、この方法を可能に構成された塗布装置100 。
請求項(抜粋):
支持体移動方向に対して上流側に位置するフロントエッジと、該支持体移動方向に対して下流側に位置し、その先端が前記フロントエッジよりも段差をつけて反支持体方向に後退しているバックエッジとを有し、該バックエッジに隣接するスリットから吐出する塗布液により最上層を形成するエクストルージョン型塗布ヘッドにより、一つ以上の塗布液を塗布する塗布方法において、塗布開始時或いは塗布再開時に、前記支持体を走行させた状態にて最初前記支持体にプレコート液を前記塗布ヘッドよりも上流側で塗布し、次いで前記支持体を前記フロントエッジにラップさせると共に、前記支持体と前記バックエッジの先端部との距離を150μm以下の状態にしたのち、前記スリットから前記塗布液を吐出し、その後前記距離を定常塗布の距離に戻して塗布することを特徴とする塗布方法。
IPC (5件):
B05C 5/02
, B05D 1/26
, B05D 1/36
, G03F 7/16
, G11B 5/842
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