特許
J-GLOBAL ID：200903098796590799

ポジ型レジスト組成物

発明者：
佐藤 健一郎

佐藤 健一郎 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-044665
公開番号（公開出願番号）：特開2003-241379
出願日： 2002年02月21日
公開日（公表日）： 2003年08月27日
要約：
【要約】【課題】超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができる、エッジラフネスが著しく改善されたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)側鎖にアダマンタン構造を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(A)下記一般式(I)で表される繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。【化1】一般式(I)において、R1は水素原子又はアルキル基を表す。Aは単結合又は連結基を表す。R2はアルキレン基を表す。Xはアルコキシ基又は水酸基を表す。
IPC (3件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 20/20 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 20/20 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (26件)：
2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100BA03P ,  4J100BA04P ,  4J100BA05P ,  4J100BA06P ,  4J100BA11P ,  4J100BC09P ,  4J100BC53P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA00 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (1件)

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