特許

J-GLOBAL ID：200903098799608923

位相シフト露光マスク及び位相シフト露光マスクを用いた露光方法

発明者： 清水 秀夫
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 高月 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-211800
公開番号（公開出願番号）：特開平9-061986
出願日： 1995年08月21日
公開日（公表日）： 1997年03月07日
要約：

【要約】【構成】 焦点深度の低下等の実用上の隘路をもたらすことなく、その性能を十分に生かすことができる位相シフト露光マスク及び位相シフト露光マスクを用いた露光方法を提供する。【解決手段】 ?@石英等の透明基板1上に遮光膜2を形成して、半遮光部3と、光透過部4とを備える構成とし、かつ該半遮光部3とは光透過部4とは位相を異ならしめて透過光を透過させる構成とし、かつ遮光膜2の形成された面と反対側の面に露光光を回折させる回折パターン5を形成する。?A上記構成の位相シフト露光マスクを用い、露光光回折用パターン5側から露光光Pを照射して露光を行う。

請求項（抜粋）：

透明基板上に遮光膜を形成して、半遮光部と、光透過部とを備える構成とし、かつ該半遮光部と光透過とは位相を異ならしめて透過光を透過させる構成の位相シフトマスクにおいて、遮光膜の形成された面と反対側の面に露光光を回折させるパターンを形成したことを特徴とする位相シフト露光マスク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G03F 1/14 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 1/08 A ,  G03F 1/14 Z ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528