特許
J-GLOBAL ID：200903098817445611

ハードコートフィルムの製造方法及びハードコートフィルム

発明者：
本郷 有記

本郷 有記 について

, 
冨岡 健太

冨岡 健太 について

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大類 知生

大類 知生 について

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所司 悟

所司 悟 について


出願人/特許権者：
リンテック株式会社

リンテック株式会社 について


代理人 (3件)： 清水 善廣 ,  阿部 伸一 ,  辻田 幸史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-224572
公開番号（公開出願番号）：特開2006-043919
出願日： 2004年07月30日
公開日（公表日）： 2006年02月16日
要約：
【課題】 本発明は、光ディスク等の光記録媒体、光磁気記録媒体や液晶ディスプレイ、タッチパネル等の被覆対象物の保護用のフィルムとして、基材フィルムにハードコート層を設けたハードコートフィルムにおいて、ハードコート層と基材フィルムの密着性及びハードコート層の表面平滑性が良好であり、厚さむらがなく、指紋の拭き取り性に優れたハードコートフィルムの製造方法及びその製造方法によって得られたハードコートフィルムを提供することを目的とする。【解決手段】 本発明は、平均表面粗さRaが0.1μm以下の剥離フィルム上に形成されたエネルギー線硬化性ハードコート組成物層に基材フィルムを貼り合わせ、加熱後、エネルギー線を照射することによって前記エネルギー線硬化性ハードコート組成物層を硬化させて基材フィルムにハードコート層を密着形成することを特徴とする。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
平均表面粗さRaが0.1μm以下の剥離フィルム上に形成されたエネルギー線硬化性ハードコート組成物層に基材フィルムを貼り合わせ、加熱後、エネルギー線を照射することによって前記エネルギー線硬化性ハードコート組成物層を硬化させて前記基材フィルムにハードコート層を密着形成することを特徴とするハードコートフィルムの製造方法。
IPC (5件)：
B32B 37/20 ,  B32B 7/02 ,  B32B 33/00 ,  G11B 7/24 ,  G11B 7/26
FI (7件)：
B32B31/08 ,  B32B7/02 103 ,  B32B33/00 ,  G11B7/24 535A ,  G11B7/24 535E ,  G11B7/24 535K ,  G11B7/26 531
Fターム (22件)：
4F100AK01B ,  4F100AK01C ,  4F100AK25B ,  4F100AR00A ,  4F100AT00A ,  4F100AT00C ,  4F100BA03 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100DD07A ,  4F100EJ082 ,  4F100EJ422 ,  4F100JB14B ,  4F100JK01B ,  4F100JK06A ,  4F100JK15A ,  5D029LB11 ,  5D029LB20 ,  5D029LC13 ,  5D121AA04 ,  5D121EE30 ,  5D121FF00
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 汚れ防止処理方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-271468   出願人：住友化学工業株式会社
  • 特許第3531835号公報
審査官引用 (3件)

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