特許

J-GLOBAL ID：200903098849501084

回路パターン製造装置

発明者： 水落 真樹
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (1件)： 平木 祐輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-252254
公開番号（公開出願番号）：特開2007-067221
出願日： 2005年08月31日
公開日（公表日）： 2007年03月15日
要約：

【課題】レーザの光軸調整作業を容易化しつつ、鏡体の変位に影響されない試料位置管理を実現することで、高精度な描画(露光)が可能となる回路パターン製造装置を提供する。【解決手段】鏡体支持部材である試料室2に連結された基準部材4に参照鏡21を取付けて、ステージ3上のバーミラー22と共にレーザ測長することで得られる基準部材4を基準としたステージ位置情報と、基準部材4と鏡体1との距離変動を測定する静電容量センサ50の情報を演算して、鏡体基準のステージ位置情報を得る。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

試料に回路パターンを形成するための鏡体と、試料を載置して移動させるステージと、ステージ位置を計測するレーザ測長系とを具備する回路パターン製造装置において、 前記ステージ上に固定された移動鏡と、 前記鏡体と別体の基準部材に取付けられた参照鏡と、 前記移動鏡と前記参照鏡に各々レーザ光を照射して、前記移動鏡からの反射光と前記参照鏡からの反射光を干渉させる干渉計と、 前記基準部材と前記鏡体との間の距離を計測する鏡体計測手段と、 前記干渉計から得られるステージ位置情報に対して、前記鏡体計測手段の情報を基に補正を行う演算部とを備えたことを特徴とする回路パターン製造装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  G01B 11/00

FI (6件)：

H01L21/30 515D ,  H01L21/30 541G ,  H01L21/30 518 ,  G03F7/20 521 ,  G03F7/20 504 ,  G01B11/00 G

Fターム (25件)：

2F065AA06 ,  2F065AA09 ,  2F065AA20 ,  2F065CC17 ,  2F065EE01 ,  2F065EE05 ,  2F065FF55 ,  2F065FF67 ,  2F065GG04 ,  2F065LL12 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ27 ,  2F065QQ33 ,  2H097BA10 ,  2H097CA16 ,  2H097LA10 ,  5F046AA23 ,  5F046BA05 ,  5F046CB20 ,  5F046CB25 ,  5F046DA12 ,  5F046DB04 ,  5F056EA11

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 電子ビーム露光装置及び方法、ならびにデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-212756   出願人：キヤノン株式会社
• 特開2001-2842019号公報
  
• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-317769   出願人：株式会社ニコン