特許

J-GLOBAL ID：200903098856841400

多層膜構造解析方法

発明者： 桂川 忠雄 ,  谷 克彦 ,  千葉 恵里子
出願人/特許権者： 株式会社リコー
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-327124
公開番号（公開出願番号）：特開平5-142166
出願日： 1991年11月15日
公開日（公表日）： 1993年06月08日
要約：

【要約】【目的】 解析精度の高い多層膜構造解析方法を提供する。【構成】 単色化されたX線を単層および多層薄膜上に臨界角θcより少し上げた、低視斜角入射させて、入射角を変化させたときに生じる反射X線強度に生じる振動ピ-クP<SB>1 </SB>、P<SB>2 </SB>、P<SB>3 </SB><HAN>・・・</HAN> の強度変化を、入射エネルギ-を変化させる毎に、ε<SB>1<HAN>、</SB></HAN>ε<SB>2<HAN>、</SB></HAN>ε<SB>3 </SB><HAN>・・・</HAN> 測定して、エネルギ-に対応する各層のX線吸収変化、すなわちEXAFSを測定・解析して各層ごとの原子・電子的構造解析を高精度で行う。

請求項（抜粋）：

単色化されたX線を単層および多層薄膜上に低視斜角入射させて、入射角を変化させたときに生じる反射X線強度に生じる振動のピークトップ(山頂)の強度変化を、入射X線エネルギーを変化させるごとに測定して、エネルギーに対応する各層のX線吸収変化、すなわちEXAFSを測定・解析して各層ごとの原子・電子的構造解析を行うことを特徴とする多層膜構造解析方法。