特許
J-GLOBAL ID：200903098859332400
アジピン酸の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 秀和 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-027859
公開番号（公開出願番号）：特開平9-227444
出願日： 1996年02月15日
公開日（公表日）： 1997年09月02日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、シクロヘキサンを酸化してアジピン酸を製造するに際し酸化反応の終了時に固相で残留する触媒を用いることにより、環境に悪影響を及ぼすことなく反応混合物から触媒を容易に分離し、回収しかつリサイクルすることを課題とする。【解決手段】 本発明によるアジピン酸へのシクロヘキサンの酸化方法は、有機遷移金属錯体の幾つかまたは全部の水素原子を1個もしくはそれ以上の電子吸引基により置換した有機遷移金属錯体を含有する固体触媒の存在下に、シクロヘキサンを分子状酸素と反応させることを特徴としている。個体触媒としては、たとえば、フタロシアニンやポルフィリンの水素原子をハロゲン、ニトロ基などの電子吸引基で置換した鉄などの遷移金属錯体を用いる。
請求項（抜粋）：
シクロヘキサンをアジピン酸まで酸化するに際し、有機遷移金属錯体の幾つかまたは全部の水素原子を1個もしくはそれ以上の電子吸引基により置換した有機遷移金属錯体を含有する固体触媒の存在下に、20〜80°Cの範囲の温度および0.35〜70.3kg/cm2 (5〜1000psi)の範囲の圧力にて、溶媒を存在させまたは存在させないで、また促進剤を用いまたは用いずにシクロヘキサンを分子状酸素と反応させ、生成したアジピン酸をたとえば濾過や遠心分離のような慣用の方法により単離することを特徴とするシクロヘキサンからアジピン酸の製造方法。
IPC (4件)：
C07C 55/14
, B01J 31/22
, C07C 51/31
, C07B 61/00 300
C07C 55/14
, B01J 31/22 X
, C07C 51/31
, C07B 61/00 300
