特許
J-GLOBAL ID：200903098875456020
レジスト現像方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉浦 正知
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-078314
公開番号（公開出願番号）：特開平9-244258
出願日： 1996年03月06日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：
【要約】【課題】 微細なレジストパターンを精度よく形成することができ、かつ、現像欠陥を有効に抑えることができるレジスト現像方法を提供する。【解決手段】 露光済みレジストが形成されたウェハー1上に現像ノズル6から現像液の吐出を行うことによりレジストを現像する場合に、現像液の吐出を複数回、例えば2回に分けて行うか、あるいは、現像液の吐出を1回行った後、ウェハー1の回転および停止を交互に複数回繰り返し行う。
請求項（抜粋）：
レジストが形成された基板上に現像液供給用ノズルから現像液を吐出することにより上記レジストの現像を行うようにしたレジスト現像方法において、上記現像液の吐出を複数回に分けて行うようにしたことを特徴とするレジスト現像方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 7/30
, H01L 21/30 569 C
, H01L 21/30 569 F
