特許

J-GLOBAL ID：200903098888933757

水酸基が保護されたフェノール性化合物の製造方法

発明者： 榊原 利明 ,  中野 浩二
出願人/特許権者： シップレーカンパニー エル エル シー
代理人 (1件)： 千田 稔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-254114
公開番号（公開出願番号）：特開2001-092139
出願日： 1999年09月08日
公開日（公表日）： 2001年04月06日
要約：

【要約】【課題】 遠赤外線を用いたフォトリソグラフィ技術において、感度が優れた感放射線性組成物を構成するのに適した樹脂を提供する。【解決手段】 酸触媒の存在下、フェノール性化合物とエノールエーテルとを反応さて水酸基が保護されたフェノール性化合物を製造する方法において、酸触媒として、常温常圧でガス状のハロゲン化水素を使用することを特徴とする水酸基が保護されたフェノール性化合物の製造方法。

請求項（抜粋）：

酸触媒の存在下、フェノール性化合物とエノールエーテルとを反応させて水酸基が保護されたフェノール性化合物を製造する方法において、酸触媒として、常温常圧でガス状のハロゲン化水素を使用することを特徴とする水酸基が保護されたフェノール性化合物の製造方法。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  G03F 7/023 511

FI (3件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  G03F 7/023 511

Fターム (37件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB03 ,  2H025AB08 ,  2H025AB13 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025FA01 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07P ,  4J100AD02Q ,  4J100AJ02Q ,  4J100BA03P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA31 ,  4J100HB25 ,  4J100HB26 ,  4J100HC09 ,  4J100HC13 ,  4J100HC38 ,  4J100HC50 ,  4J100HC69 ,  4J100HE14 ,  4J100HE41 ,  4J100JA37