特許
J-GLOBAL ID:200903098889575200
非線形光学材料及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
田中 常雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-132084
公開番号(公開出願番号):特開2002-328403
出願日: 2001年04月27日
公開日(公表日): 2002年11月15日
要約:
【要約】【課題】 高品質な非線形ガラス薄膜を得る【解決手段】 SiO2基板10上にITO透明電極12、SiO2膜14、及び目的の非線形光学薄膜となる数μmのガラス薄膜16を堆積する。この試料をホットプレート20で加熱される絶縁油22に浸す。薄膜16上に電極18を配置し、電極12,18間に所定の電圧を印加する。
請求項(抜粋):
基板と、当該基板上に配置される電極と、当該電極の上に配置され、非線形光学特性を具備するガラス膜とからなることを特徴とする非線形光学材料。
IPC (2件):
G02F 1/355 501
, C03C 23/00
FI (2件):
G02F 1/355 501
, C03C 23/00 Z
Fターム (11件):
2K002AB12
, 2K002CA15
, 2K002EB04
, 2K002EB08
, 2K002FA07
, 2K002FA27
, 2K002HA14
, 2K002HA22
, 4G059AA11
, 4G059AB09
, 4G059AC30
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