特許
J-GLOBAL ID:200903098890785129
多孔質セラミック材及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
特許業務法人快友国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-286829
公開番号(公開出願番号):特開2004-123415
出願日: 2002年09月30日
公開日(公表日): 2004年04月22日
要約:
【課題】ミクロ細孔に富む表面セラミック層を有し、高温条件下で使用し得る多孔質セラミック材及びそのような多孔質セラミック材の製造方法を提供する。【解決手段】本発明の多孔質セラミック材製造方法では、ケイ素を主体とする非酸化物セラミックの前駆体ポリマーが表面部の少なくとも一部に付与されている多孔質セラミック支持体(120)を用意し、その支持体に熱分解前処理を施し、その後、前記前駆体ポリマーを熱分解して前記支持体の表面部にミクロ細孔に富む多孔質非酸化物セラミック層を生成する。熱分解前処理では、前記支持体を略40°C以上であって前駆体ポリマーが実質的に熱分解しない温度で1時間以上保持する。或いは、加圧可能な容器(101)内に前記支持体を配置し、該容器内を0.12MPa以上に加圧するとともに前記前駆体ポリマーが実質的に熱分解しない温度で該支持体を保持する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
多孔質セラミック材を製造する方法であって、
(a)ケイ素を主体とする非酸化物セラミックの前駆体ポリマーが表面部の少なくとも一部に付与されている多孔質セラミック支持体を用意する工程と、
(b)その支持体を略40°C以上であって前記前駆体ポリマーが実質的に熱分解しない温度で少なくとも1時間保持する工程と、
(c)前記前駆体ポリマーを熱分解して、前記支持体の表面部にミクロ細孔に富む多孔質非酸化物セラミック層を生成する工程と、
を包含する製造方法。
IPC (5件):
C04B38/00
, B01D53/22
, B01D69/10
, B01D71/02
, C04B41/87
FI (5件):
C04B38/00 304Z
, B01D53/22
, B01D69/10
, B01D71/02 500
, C04B41/87 D
Fターム (20件):
4D006GA41
, 4D006GA42
, 4D006MA02
, 4D006MA06
, 4D006MA09
, 4D006MA10
, 4D006MA22
, 4D006MB04
, 4D006MC03
, 4D006MC03X
, 4D006NA39
, 4D006NA46
, 4D006NA51
, 4D006NA63
, 4D006NA64
, 4D006PA01
, 4D006PB63
, 4D006PB66
, 4D006PC69
, 4G019GA04
引用特許:
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