特許

J-GLOBAL ID：200903098895813856

ポジ型ホトレジスト組成物

発明者： 秀坂 慎一 ,  沢野 敦 ,  土井 宏介 ,  小原 秀克 ,  中山 寿昌
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-204404
公開番号（公開出願番号）：特開2001-033957
出願日： 1999年07月19日
公開日（公表日）： 2001年02月09日
要約：

【要約】【課題】 感度、解像性、焦点深度幅特性に優れ、とくに密集パターンと孤立パターンの混在した形状のよいレジストパターン形成が可能で、孤立レジストパターンが逆テーパ状になりにくいポジ型ホトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (A)アルカリ可溶性樹脂、および(B)感光性成分を含有し、(B)感光性成分は下記一般式(I)で表される化合物と1,2-ナフトキノンジアジドスルホニル化合物とのエステル化物を含有する組成物。【化1】

請求項（抜粋）：

(A)アルカリ可溶性樹脂、および(B)感光性成分を含有してなるポジ型ホトレジスト組成物において、(B)感光性成分は、下記一般式(I)で表される化合物と1,2-ナフトキノンジアジドスルホニル化合物とのエステル化物を含有してなることを特徴とするポジ型ホトレジスト組成物。【化1】

IPC (4件)：

G03F 7/022 601 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/022 601 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (11件)：

2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CA00 ,  2H025CB52