特許

J-GLOBAL ID：200903098896940568

水素発生方法及び水素発生装置

発明者： 入江 寛治
出願人/特許権者： 大同特殊鋼株式会社
代理人 (1件)： 菅原 正倫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-011548
公開番号（公開出願番号）：特開2003-212502
出願日： 2002年01月21日
公開日（公表日）： 2003年07月30日
要約：

【要約】【課題】 有機物質からの水素ガスの発生を極めて効率的に行うことができる水素発生方法を提供する。【解決手段】 水素発生装置1は、水素原子を含有した有機化合物からなる原料ガスから水素ガスを発生させる装置であり、1対の電極3,4を対向配置して放電ギャップGを形成し、かつ、それら電極3,4の少なくとも一方を、放電ギャップGに臨む端部が縮径形状とされた縮径電極としている。電極3,4は、ガス供給口10とガス排出口11とを有する反応容器2内に配置され、ガス供給口10から導入された原料ガスgの流れが放電ギャップGに集中するように、当該反応容器2の内部空間形状が定められている。ガス流は放電ギャップGに集中するように供給され、この状態で電極3,4間に電圧印加して放電ギャップGに気体放電によるプラズマを生じさせる。これにより、原料ガスgは放電処理され、水素ガスを含有した水素含有ガスに変換されて、ガス排出口11から排出される。

請求項（抜粋）：

水素原子を含有した有機化合物からなる原料ガスから水素ガスを発生させる方法であって、1対の電極を対向配置して放電ギャップを形成し、かつ、それら電極の少なくとも一方を、前記放電ギャップに臨む端部が縮径形状とされた縮径電極とし、前記放電ギャップに前記原料ガスを、ガス流が該放電ギャップに集中するように供給しながら、それら電極間に電圧印加して前記放電ギャップに気体放電を生じさせ、該原料ガスを放電処理して水素ガスを含有した水素含有ガスに変換することを特徴とする水素発生方法。

IPC (5件)：

C01B 3/26 ,  B01J 19/08 ,  C01B 3/22 ,  F02M 27/04 ,  H01M 8/06

FI (5件)：

C01B 3/26 ,  B01J 19/08 E ,  C01B 3/22 A ,  F02M 27/04 B ,  H01M 8/06 R

Fターム (19件)：

4G040DA01 ,  4G040DA03 ,  4G040DB04 ,  4G075AA03 ,  4G075AA05 ,  4G075BA05 ,  4G075BD05 ,  4G075CA15 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EB21 ,  4G075EC10 ,  4G075EC21 ,  4G075EE01 ,  4G075EE31 ,  4G075FA01 ,  4G075FA12 ,  4G075FC15 ,  5H027AA02