特許

J-GLOBAL ID：200903098899113859

多層膜の成膜装置並びに光学特性の測定方法及び成膜方法

発明者： 内田 真司 ,  是永 継博 ,  黒川 英雄 ,  沢田 亮人
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 池内 寛幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-003700
公開番号（公開出願番号）：特開平5-255850
出願日： 1993年01月13日
公開日（公表日）： 1993年10月05日
要約：

【要約】【目的】 光学的膜厚制御を行いながら、同時に多層膜特性をその場観察できる成膜装置を提供し、高精度な膜厚制御を可能とする。【構成】 成膜装置を、真空状態に保持された成膜室1と、成膜室1の内部に設けられ、多層膜が形成される基板8と、多層膜の各層の光学的膜厚を制御する光学的膜厚モニタ基板10と、光学的膜厚モニタ基板10を各層ごとに交換するモニタ交換機構16と、光学的膜厚モニタ基板10の下側部分に配置され、多層膜の分光特性を観察する多層膜モニタ基板17と、光学的膜厚モニタ基板10及び多層膜モニタ基板17上に光を照射する光源11と、光を成膜室1の内外に入出射させる光学窓21と、光学的膜厚モニタ基板10からの反射光量を検出する検出器14と、前記多層膜用モニタ基板17からの反射光の分光特性を測定する分光特性評価装置20とにより構成する。

請求項（抜粋）：

多層膜の各層の膜厚もしくは光学的膜厚を制御する膜厚制御手段と、多層膜を形成する多層膜モニタ基板と、前記多層膜モニタ基板上に成膜された多層膜の光学特性を測定する測定手段と、前記測定手段によって得られた結果を処理し、以降積層する層の屈折率もしくは光学的膜厚を制御する制御手段にフィードバックする機能とを少なくとも備えてなる多層膜の成膜装置。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭59-143904
  
• 特開昭55-076064
  
• 特開平2-098609